XPS在纳米薄膜厚度测量中的应用
X射线光电子能谱(XPS)是非常重要的表面化学分析技术。该技术的分析深度约10纳米,结合离子溅射可以分析的更深。近年来,有将此方法用于纳米薄膜厚度测量的研究。本报告重点介绍“XPS用于硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量”。
全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分技术委员会
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