荧光物质中光谱分布检测方案(分子荧光光谱)

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HITACHI1nspire the NextHitachi High-Tech 日立新品荧光分布成像系统---万圣节新应用 刚刚过去的 BCEIA 大会，日立发布了全球独创的荧光分布成像系统(EEM View)，今天就用它来测定万圣节必不可少的南瓜贴纸。 EEM View 是日立全球首荧在荧光分光光度计中加入 CMOS相机的系统，能够同时获得样品的图像和光谱信息，最大亮点是可以获得样品图像任意区域的光谱性能。 南瓜贴纸光谱信息鉴赏 各式各样的南瓜贴纸中含有大量荧光粉，众所周知，这种贴纸暴露在黑暗中会发出荧光。 图1荧光分布成像系统 图1所示便是这次鉴赏南瓜头贴纸的荧光分布成像系统，从图中可以清晰看到新附件的结构， CMOS 相机位于积分球下方，样品安放在积分球上方，入射光经过积分球漫反射获得均匀光源，激发样品产生荧光。 图2实际的样品仓及白光下拍摄的样品图像 图2是样品仓中的荧光分布成像系统及软件界面上显示的白光下拍摄的样品图像，我们可以清晰的看到贴纸的形态，，以及样品被分成了 5*5的区域。 图2不同波长下的样品图像及三维荧光光谱 图3不同波长下样品的反射图像(上)和荧光图像(下) 图4激发波长为460nm下，样品不同位置的荧光光谱 如图4所示，样品被分成5*5的小区域，通过点击不同的位置，就会出现相应的荧光光谱，从图中发现，样样不同位置的荧光强度是不相同的，B1区在525nm 处的荧光强度更高。 EX：460 (nm) WL： 400 (nm) 图5波长为460nm下，样品不同位置的反射光谱 如图5所示， B1区的反射光谱强度比 A1区更高，对比图4和图5发现，在620nm以后A1 区和B1区的荧光光谱重合，但反射光谱中 B1区高于A1区，说明 B1区在 620nm以上反射成分更多。 图6放大后的样品荧光图像 图6是对样品局部区域进行放大后再次分区，.，可以发现南瓜头胡子的不同位置荧光强度也不相同。 通过测定万圣节南瓜贴纸，，1可以发现最新技术荧光分布成像系统的强大功能，，它能够同时获取样品多方面的信息，包括样品的荧光图像，反射图像，荧光光谱，反射光谱，，：三维荧光光谱以及量子产率等。 一般的荧光分光光度计测得的是样品区域表面平均化后的信息，只能获得一条荧光光谱，而日立荧光分布成像系统能够同时获取样品不同位置的光谱信息，有利于探究样品表面的光学性能分布。 日立高新技术以、‘让世界充满活力’为宗旨，致力于新技术的融合与开发，这次推出的新品荧光分布成像系统将对油墨、材料、化工、涂料以及 LED 等领域带来新的启发，新的探索方法。 日立高新技术公司电话： 邮箱： contact.us@hitachi-hightech.com 刚刚过去的BCEIA大会，日立发布了全球独创的荧光分布成像系统（EEM View），今天就用它来测定万圣节必不可少的南瓜贴纸。   EEM View是日立全球首创在荧光分光光度计中加入CMOS相机的系统，能够同时获得样品的图像和光谱信息，突出亮点是可以获得样品图像任意区域的光谱性能。                                               特点1. 在不同光源（白光和单色光）下拍摄样品图像      2. 获得样品的反射光谱和荧光光谱      3. 利用独特的光谱处理算法，获得样品的荧光图像和反射图像      4. 获得样品图像任意区域的光谱信息