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三氯硅烷 (TCS)中金属杂质检测方案(ICP-MS)

检测样品 集成电路

检测项目 化学性质

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方案详情

三氯硅烷经过安捷伦开发的样品前处理方法,然后采用 Agilent 7700s ICP-MS 成功得到分析。ORS 池显著提高了 He 碰撞池性能,在 m/z 31 处直接测定磷可获得 0.1 ppb 的检测限。加标回收率测试证明了样品前处理和分析方法对包括硼在内的所有元素均有效。TCS 的分析能力可让 PV 硅制造商在制造 PV 硅之前检查 TCS 中间产物的金属杂质。

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三氯硅烷经过安捷伦开发的样品前处理方法,然后采用 Agilent 7700s ICP-MS 成功得到分析。ORS 池显著提高了 He 碰撞池性能,在 m/z 31 处直接测定磷可获得 0.1 ppb 的检测限。加标回收率测试证明了样品前处理和分析方法对包括硼在内的所有元素均有效。TCS 的分析能力可让 PV 硅制造商在制造 PV 硅之前检查 TCS 中间产物的金属杂质。

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安捷伦科技(中国)有限公司为您提供《三氯硅烷 (TCS)中金属杂质检测方案(ICP-MS)》,该方案主要用于集成电路中化学性质检测,参考标准《暂无》,《三氯硅烷 (TCS)中金属杂质检测方案(ICP-MS)》用到的仪器有null。

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