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光刻胶成分复杂且技术门槛极高,其工艺水平直接关系微电子的光刻效果。红外光谱法提供了一种分析光刻胶主成分的思路,具有分析速度快,成本低和操作简单等优点,可作为光刻胶定性分析的有力补充手段。
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岛津企业管理(中国)有限公司为您提供《红外光谱法分析光刻胶的主成分》,该方案主要用于其它中光刻胶检测,参考标准《暂无》,《红外光谱法分析光刻胶的主成分》用到的仪器有岛津(Shimadzu)IRXross傅立叶变换红外光谱仪(FTIR)。
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