消除氧化物干扰的方法

AridusII 利用加热的雾化室和加热的膜来去除溶剂干扰提高ICPMS的信号灵敏度。Aridus II 与ICPMS 联用来提高信号强度，同时去除基体中氢氧化物的干扰。绝大多数元素能提高３～１０倍的信号强度。

AridusII　的性能特点:

1 Aridus II 系统能够使用 HF 酸直接进样。

2 最大样品提升量为250ｕｍ／ｍｉｎ

3 ＰＦＡ气动雾化器（６ｍｍ标准直径）

4 氧化物去除效率的测试标准是用　ＣｅＯ／Ｃｅ　的比值，该比值能达到０.０５％或者更低。

5 可选件：专用的微量自动进样器，ＡＳＸ－１１２ＦＲ

6 样品以自提的形式进入　Aridus II 的ＰＦＡ雾化器。排除蠕动泵进样引起的脉动效应。

7 AridusII 可添加低流量氮气，提高ICP-MS的信号强度。

8 挥发性有机溶剂能够用Aridus II进样。

9 Aridus II 能够为激光剥蚀实时添加内标，溶液样品变成干的气溶胶添加到LA-ICP-MS系统中。