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什么是ICP光谱仪的去溶干扰？

ICP光谱

  • 1. 去溶干扰就是去除溶剂的干扰,主要是扣除背景.
    2.     可以提高灵敏度,降低检出限.
    3.     去溶过程主要出现于分析液体样品的原子吸收和ICP发射光谱，它是指将雾化后的液（湿）气溶胶中溶剂挥发变为干气溶胶的过程。对于ICP来说，因为加热条件比较好，只要使气溶胶在分析通道的停留时间足够长，即使不用去溶装置也可使分析物完全挥发，而基本上没有什么去溶损失，所以ICP的去溶干扰并不十分明显，更不是很重要。
    欢迎老师继续 补充！
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    +关注 私聊

  • Whening

    第1楼2023/08/07

    ICP的焰炬较长，在采集数据之前就有去溶了。

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    +关注 私聊

  • timstoicpms

    第2楼2023/08/08

    你需要了解 膜去溶进样系统
    https://www.teledynecetac.com/products/nebulizers/aridus3

    Whening(Insp_42556327) 发表:ICP的焰炬较长，在采集数据之前就有去溶了。

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