第11楼2006/12/06
很好的东东
第12楼2006/12/07
q 我也觉得应该是指该样品中的主成份浓度过高而造成相当可观的干扰!
第13楼2006/12/10
其实大概意思都知道是怎么回事但要给个标准一点的定义就不好组织词语了基体应该就是指样品的主成分吧
第14楼2006/12/14
物理干扰: 表面张力、粘度、密度和盐份等造成雾化器提升效率的差异。1)有机物;2)酸的浓度和种类光谱干扰: 待测光谱线处存在基体或其它待测元素的谱线。化学干扰: 由于等离子体的高温,样品停留时间长,惰性气氛ICP中化合物很难维持或无法形成,化学干扰少。
第15楼2006/12/14
电离干扰: 岩矿分析中的碱金属盐类易电离元素的大量存在,使待测元素的光谱强度(离子线)降低。去溶干扰: 溶液去溶存在的差异。溶液去溶损失的差异。
第16楼2006/12/18
[div][/div]斑竹们可以顺便也发点ICP的资料给我吗??谢谢了!小弟的邮箱:fanfudeng@163.com
第17楼2006/12/18
是不是主含量的介质要其中的干扰?
第18楼2006/12/18
请问,在做标准加入法的时候,扣背景的点很难选择,不同的点对样品结果影响很大,有没有好方法能够提高标准加入法的准确性呢?
第19楼2008/10/04
我的理解是样品中除待测元素外其它物质对待测元素的干扰
第20楼2009/09/12
内标法也可消除在进样过程、雾化过程和等离子体中对待测元素存在的基体效应,但无法消除背景漂移和光谱干扰。通常用Y和Sc做内标元素。