如果楼主是做工艺研究的话，确实不需要高的槽压。不过还是用一些高槽压的设备比较好。毕竟有的时候，为了达到高电流强度，而溶液又比较难导电的话，没有高槽压还是比较费事的。实验室研究，镀片都不会很大，做机理的话，槽压还在其次，EIS这个关键技术是不能忘记的。还有就是RDE，RRDE等，这可是电镀机理研究的必备武器啊。

推荐一款设备，见下面网站：
www.ivium.nl

与用途有关，国产的好多高频只能测到100K，需要测更高频率的就没有。不过便宜，国外的如Zahner 公司的IM6eX和英国的输力强是比较好的，但是价格昂贵，前一种需要20～30WRMB，而后一种需要40W左右吧

天津兰力科相对好像好一些吧

做阻抗测试，100KHz足够了，化学体系很多在100KHz的响应已经能够能够反映出问题。国产和进口的主要区别不在于阻抗频率的宽窄，而是EIS数据的可靠性和准确性。国产仪器在频谱分析上还是不够过关，数据的重现性、可靠性不好，这是制约他们发展高端用户的主要阻碍。

荷兰的AUTOLAB的不错！

便宜点的CHI660
性能好的又权威的美国的2273

我是用CHI660C做电镀Ni和氧化铝颗粒复合镀，在阻抗测量时最高频率下出现了感抗弧，想请教一下这个是由于什么引起？先行谢过！

如果是学校教学和研究的是用上海辰华的,

我们现在实验室用的是美国的哪个，感觉一般

可以的话，建议买德国的 Zahner IM6eX 电化学工作站，厦门大学九十年代买的，用到现在，不过比较贵。我上学的时候也是用的这个，那时已经用了5年，很好用，老师都觉得很结实，呵呵。