肯定不一样，FID主测碳。

那SiH4能用FID检测吗？检测信号是怎样来了，SiH4在FID里是发生怎样的化学反应？信号跟浓度成比例关系吗？
我还没查看到有关不含C化合物用FID检测的原理解释。我没做过这实验。

我没做过，这是什么东西？什么方面的？我可以查查.

不过这种硅烷，倒是听过有人用TCD做过。这属于无机范畴。
FID是测有机的。

引用：
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原文由 nitrogen 发表:请问各位有经验的老师：
同时分析氮中微量（3000ppm以下）卤代烷和硅烷，用什么色谱柱和检测器啊？
谢谢！
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先声明一下，咱可不是有经验的人，只是书上看的。
填充柱：GDX101、PORAPAK P /PORAPAK Q
毛细柱名称较多，用非极性或中等极性柱。
检测器：FID
个人观点。

老师，用FID测是你提的建议。我说的“3000ppm以下卤代烷和硅烷”意思是浓度由几十到几千ppm，希望一个方法解决，TCD恐怕测不了低浓度。

FID 测前者；后者因为上次有个朋友做多晶硅的，好像用的是TCD，所以作此判断。将行业告诉我，看看色谱图库中有无介绍。

从这两例图中看。又回到最前面，就用FID做。应该可行，这只限于微量，常量硅烷估计不行。最好确认下，含量较低。
图1

没找到填充柱的，比较可惜。有空我再找找，这些你先看着。

TCD有防腐、高精度、大容量等很多种类型的检测器的，几十个ppm大部分品牌都可以做的，再低就得仔细选择了。
可以去资料里看下，我上传了一份TCD的资料。

硅烷可燃，如果通到检测器里面肯定会反应掉生成二氧化硅沉积和水，所以在分离之后肯定不能将硅烷组份通入检测器。
卤代烃就不清楚了，程版主共享的图很不错，只是我没这方面的经验。这方面的应用我们只会TCD和DID……