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  • zhufangwei

    第11楼2009/05/15

    1、T-Wave脏了清洗是与下面电路板一并拿下来的，你看下我附件里的资料，说的详细些；
    2、因为它离离子源近，抗污染能力弱，相对容易污染，当然都是需要经常清洗的。

    zehailin 发表:不错的资料,,不过有点疑问,请教各位:

    1.T-Wave脏了清洗和清洗离子源锥孔有何区别?

    2.貌似表中Waters的容易脏,需要经常清洗,其它仪器的不经常洗吗?

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  • zhufangwei

    第12楼2009/05/15

    很感谢你，呵呵
    1、源我重新表明了；
    2、列出来已经算典型的了，在具体我也不知道那个才是典型的了；
    3、是的，这个我稍微改了下。

    juju11 发表:很感谢楼主为大家总结，我来提些问题：
    1 楼主最好写清楚是ESI源，因为你的图都是ESI源的。
    2 最好结合图示把每家仪器的代表性型号写一下，因为不是所有型号的源都是一样的，比如waters的T-Wave，Waters早期的液质就没有这个技术。
    3 楼主最好再写清楚总结的是三重四级杆的质谱，因为质量分析器还有其他的，但是你这里没有涉及。关于质量分析器，严格来讲，已经不属于离子源部分了，所以写在表中似乎有待商榷，还有就是每家仪器公司的质量分析器的不同楼主似乎没有些出来。如果楼主指的是真正质量分析器前面的用来聚焦的部件，最好也写清楚，不然会让人产生误解。

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  • 石蛋

    第13楼2009/05/25

    学习中！！谢谢！

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  • vvv499

    第14楼2011/08/21

    比较喜欢waters的新型号的设备，感觉每次发布新型号都有新的改进或技术在里面，还有软件比较人性化

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