使用基体校正，德扬公式可以将某一项不测的成分做为消去项消去，比如LOI。熔融后因为烧失量不同引起的稀释比和浓度差异，可以使用基体校正。

内标法只是补偿基体效应的方法，德扬公式是用数学公式进行基体校正。

最好能单独开主题讲一讲，以便大家讨论！

软件里都有基体校正的方法，因软件不同而使用不同。如果只是理论公式的话，几乎所有的书上都有这些公式。

[quote]原文由 ljzllj(ljzllj) 发表:使用基体校正，德扬公式可以将某一项不测的成分做为消去项消去，比如LOI。熔融后因为烧失量不同引起的稀释比和浓度差异，可以使用基体校正

荧光软件中的确带有校正软件，实际操作中需要选择基体元素（其它已知的分析元素）对分析元素进行校正，计算其影响系数。但专家提到了选择不测成分消去，怎么选择？当然不同厂家荧光操作软件不一致，可能会有很大不同。（偶是使用岛津２４００）

这个要看具体的厂家，岛津的仪器我不是很清楚，2400是固定道还是扫描道？要做基体校正，首先要测样品中所有的元素，如果只是固定道，可能有的元素通道并不包括，使用起来受限。

2400是固定道的

烧失量难道属于某种元素？烧失量应该是计算结果，你可以调整公式。

你可以测出烧失量进行换算啊，当然没问题了。

哪位专家可以把“德扬公式“贴一下。。。能够让大家更加形象地了解“烧失校正”。