第25楼2010/01/08
2个问题问楼主:
1.您说“在石墨炉信号分析中,信号的产生及变化速度极快,每秒可达10个吸光度”。众所周知的是,AA在测试过程中测的是透过率,怎么会以吸光度来表示信号变化呢?另外,10个吸光度您是怎么算出来的呢,4个吸光度透过率就是0了。
2.在S-H法中,您提到“连续灯源状态”,请问,什么是连续灯源状态?
几个与楼主看法不同的地方:
1.D2灯背景校正最不足的地方是,因为其是连续光源,所以其与HCL不是在同一测量波长处;
2.自吸背景校正是我们国家最先提出的,好像是76年的桂林会议上,刘瑶函等
3.灯寿命的问题,现在上海光谱提出了断续点灯自吸背景校正方法,可大大延长灯寿命
4.另外,自吸背景校正缺陷还有,其适用元素较少,易产生自吸现象的元素不多
5.关于zeeman,下次再说。
第26楼2010/01/08
这位同学,不是说石墨炉需要不需要扣除塞曼背景。
首先,塞曼不是一种背景名称,它只是扣除背景吸收的一种手段,实际上是不存在所谓的“塞曼背景”的
其次,背景扣除不是仪器(纵向加热或横向加热或火焰)所需要的,如果样品是纯标液或者无任何背景吸收,那就不需要任何背景校正。但是,遗憾的是,这样的样品少之又少,甚至可以说是没有。
再次,那么,若是有背景吸收我们该怎么办呢?那我们就采取背景校正,也就是背景扣除。现在常用的三种扣背景方式楼主已经罗列出来了,就是“连续光源”,“自吸收”,“塞曼”。
磁场如何产生的。磁场分恒磁场或者电磁场。前者简单说就是磁铁,后者是电产生磁。
第27楼2010/01/08
这位小友,很多情况下误差是不能简单称之为正偏差或负偏差的
简单来说,任何背景校正都会产生校正不足或者校正过度,这要根据实际样品、仪器条件、实际背景高低等决定的
一般说来,如果背景有光谱结构,或者有共存元素的邻近吸收线,会出现补偿过度。