蚀刻的主要目的就是希望能够更清晰看到样品的微观结构.比如我们常用的冷冻蚀刻,其目的就是将样品断面上冷冻凝固的水分升华,使组织细胞超微结构充分暴露的过程.

hereyouare说的基本正确。
蚀刻指在一定真空条件下通过射频等离子发生器产生等离子对电镜试样表面进行处理。该方法不需高温和湿化学试剂。广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。
用于等离子清洁之用途时，只需要低功率，目的是：清除疏松的表面原子层污染，且不至于蚀刻样品的下表面。
用于等离子蚀刻样品之用途时，需要较高功率，目的是：清除样品的顶面层或钝化层。
极端蚀刻：即“灰化”处理，指样品被彻底地蚀刻，没有残余物。就拿碳样来说，一般认为“灰化”就是蚀刻所有有机物，残余都是无机物。
射频等离子蚀刻机（如英国Emitech的K1050X）既可应用于扫描电子显微镜，也可应用于透射电子显微镜的样品处理。具体用途常表现在：
● 石棉试样制备
● 有机材料微观灰化
● SEM&TEM中有机样品刻蚀
● 去除光刻胶及电子元件中的包胶
● 塑料品的表面处理
● SEM/TEM中的样品夹清洗
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蚀刻在SEM的制样中有3种
化学蚀刻：为了把特定结构的部分暴露出来，必须蚀刻掉多余部分
溶剂蚀刻：溶解掉聚合物的一种
电子束蚀刻：利用高压的电子束在真空中，降解一些分子量较低的聚合物，从　　　　　　而获得需要观察的部分。

对扫描电镜样品进行蚀刻的目的一般是将所感兴趣的特征表现出来.比如,一个样品的表面或截面非常光洁,这时使用二次电子成像就非常困难(因为没有形貌衬度,当然可以采用背散射电子成像观察样品的元素衬度.但很多样品使用背散射电子像也不一定成功).使用楼上所说的方法对样品蚀刻后,就可以正常地观察样品了.
当然,蚀刻地方法不限于楼上所说.

不过,目前国内对样品蚀刻技术应用地并不多.
国际上应用较多的是离子蚀刻,象Gatan就有一种带蚀刻功能的制样设备. FEI的FIB中有增强的蚀刻气体,在半导体行业应用比较多.

选择射频等离子蚀刻仪时，应注意如下问题：
1.功率是否连续可调:一般清洁或蚀刻样品时用10W左右的低功率,而灰化等用途时采用100W左右的高功率.如果在0-100W连续可调,则不但使用方便、而且对精确研究用途时可按需要设定精确的可重复的参数.
2.RF(射频)电路是否为自动调谐:这影响到使用时的方便性和稳定性.
3.真空腔室的状态参数(比如:当前功率\真空度等)是否在显示屏上一目了然.
4.能否将蚀刻参数(功率\真空度\持续时间等)预先设置和编程,并自动执行.
5.蚀刻气体一般有2个入口，是共用还是各自独立的入口？
6.射频等离子蚀刻仪的生产厂家的规模大小，售后服务情况等也是重要的选择因素。比如：世界著名厂家英国Emitech的K1050X的售后服务就非常到位，保修期是1+2共3年。
以上仅供参考。
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英国Emitech的K1050X射频等离子蚀刻仪中文介绍