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  • xgq_2001

    第21楼2010/06/16

    希望我了解的这些对大家能有所帮助,另外也希望能抛砖引玉,有高手,专家站出来指点一二,谢谢!!

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  • xgq_2001

    第22楼2010/06/17

    我们再来举一个简单的例子,水分子H2O在二次离子质谱中,其谱峰如何呢?
    正离子谱峰:
    19,37,55,73,91,109,127,145,163,181,199,217,235,253,271,289等等,我们不难发现所有的分子序列相差18,可以用通项公式表示上述序列:1+18n(其中n=1,2,3……,自然数)。而我们知道水的分子式为:H2O=18
    也就是说上述二次离子谱峰的规律可以解释为:H(H2O)n(+)得分子碎片,这也为我们进一步了解水分在在固态条件下具体的结构,同时,也为氢键的存在提供了有利的佐证。

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  • xgq_2001

    第23楼2010/06/17

    关于二次离子电离的模型:
    1。 断键模型---解释原子二次离子形成
    基本假设:离子基态假设-离子态是基态,观察到二次离子离化的概率决定于离子态是否在能量上有利于以离子形式离开表面。

    2。分子模型
    基本假设:离子只能从表面的一定距离出逃逸出来
    形成的离子是由于中性分子溅射而解离
    在飞离表面的原子间,因为相互碰撞而产生能量级联
    因此,离子解离的形成在分子离开表面的过程中发生电荷交换
    3。脱附解离模型
    基本假设:二次子轰击样品表面,导致而表面吸附分子,原子基团振动增强,而导致其电离。
    4。价带模型
    基于这样一个事实:金属离子的氧化态在二次离子基团中起重要作用

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  • xgq_2001

    第24楼2010/06/17

    二次子关键技术是一次离子源及飞行时间检测器
    目前采用的主要一次离子源:LIMG(Ga, Au, Bi),Cs, C60等等,
    检测器:ESA/Reflectron

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  • xgq_2001

    第25楼2010/06/17

    氧化硅---正离子,Si+ --28,Si-OH+ ----45等;负离子:Si-O2+ ---60,Si-O3-H+--- 77;
    硅氧烷---正离子, 28,Si-CH3----43,Si-C3H9---73,147等

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  • xgq_2001

    第26楼2010/06/19

    敬请大家关注,帖子在持续更新中

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  • xgq_2001

    第27楼2010/06/20

    如何获得高分辨率的二次离子质谱图呢?
    1。优化一次离子源的参数,尤其是脉冲的宽度
    2。优化质谱仪参数,使二次离子角动量和能量最大化
    3。检测器的时间分辨系统

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  • xgq_2001

    第28楼2010/06/21

    怎么没有人顶了?

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  • tanggangfeng

    第29楼2010/06/22

    "二次离子质谱(SIMS)分析技术及应用进展" ,
    感兴趣可以看看这篇文献.

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  • xgq_2001

    第30楼2010/06/22

    谢谢分享!!

    tanggangfeng(tanggangfeng) 发表:"二次离子质谱(SIMS)分析技术及应用进展" ,
    感兴趣可以看看这篇文献.

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