这需要考虑基质情况,当基质中含有强保留化合物时,您可以在目标化合物全部出峰后把有机相设置在较高比例,比如80%以上,这样就可以洗掉强保留杂质;如果没有这种杂质,就不必这样设置。具体判断就是将有机相设置为5%-100%,先分析标品,再分析基质空白,对比两个谱图,当基质空白的谱图上最后一个目标物后面若有较多杂质峰时,就应进行高有机相冲洗,一般高有机相冲洗5-10 min即可。
zxm-1980(zxm-1980) 发表:您好请问:
最后一个标准峰出峰后还需要冲洗多长时间,才能把其他吸附物液冲洗下来不影响下一次进样?