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  • 秋月芙蓉

    第11楼2011/02/27

    对于正常氩气工作的状态下，能与Ar产生多原子离子干扰的元素，可以采用反应池或碰撞池技术消除干扰

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  • 金水楼台先得月

    第12楼2011/02/28

    是不是跟我前面的测Cl时，使用的试剂有Cl离子，就需要采用反应池或碰撞池技术消除干？

    秋月芙蓉(ljhciq) 发表:对于正常氩气工作的状态下，能与Ar产生多原子离子干扰的元素，可以采用反应池或碰撞池技术消除干扰

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  • jiangdelai909

    第13楼2011/02/28

    因为不同的基体可能会带入不同的干扰，所以有的元素给出两种或三种测量模式供大家参考，至于具体的选择，就需要根据实际情况来自己确定，不是说一定就要用两种模式来做

    zhangyingfu138(zhangyingfu138) 发表:至于7楼的元素推荐使用模式我不反对！它给的正常模式下可能已经排出了所有干扰的可能性了或者低质量元素，He/H模式下是避免某个干扰，比如As用He是避免ArCl干扰！
    对于实际情况和不同仪器，就拿Sb,Cr来说吧，7楼资料推荐的是0.1s,0.5s积分，而我仪器推荐是2s,0.3s积分，它推荐的一个是普通模式一个是氦模式，假如需要同时测试这两个元素，大家是两个模式间切换吗？我都是直接He模式的！

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  • zhangyingfu138

    第14楼2011/03/01

    额，这个时候试剂有Cl离子是本底，应该是只有扣除本底没法通过反应池消除这个目标元素的干扰的！

    金水楼台先得月(albert800922) 发表:是不是跟我前面的测Cl时，使用的试剂有Cl离子，就需要采用反应池或碰撞池技术消除干？

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  • zhangyingfu138

    第15楼2011/03/01

    额，这个时候试剂有Cl离子是本底，应该是只有扣除本底没法通过反应池消除这个目标元素的干扰的！

    金水楼台先得月(albert800922) 发表:是不是跟我前面的测Cl时，使用的试剂有Cl离子，就需要采用反应池或碰撞池技术消除干？

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