含量是有点低啊，正好是国标GB/T 20125-2006的下限

我认为，ICP和ICPMS做0.01%的含量应该都可以，但是样品处理非常重要：
（1）使用的器皿很重要；
（2）使用的酸、水的空白值要尽量低
（3）注意环境的影响；
如果空白控制不好，ICP、ICPMS都没用。
建议，空白和样品都做平行样，并用标准钢样做，看准确度如何，注意低碳钢、中碳钢、碳钢、铸铁等样品，样品处理的影响可能也会不一样。
坛里是否有钢厂做检测的，请他们来说说。

建议你送到研究所测测试试-----比如核工业230研究所---测硅真的很讲究的，最好不要用ICP-OES来测。

石英瓶也可能会有影响，空白确实很难控制，我们现在使用的纯水机过程中通常会用到硅小柱，所以仅仅是水的空白都可能很高。我们现在会用分光光度法的结果和ＩＣＰ的结果进行比较，一般要结果平行才会出具。ICP-MS拿来测试这么高的Ｓｉ，你们的ＭＳ实在是用得很高调，我们的MS现在还在保修期，我都不敢这么的用。