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  • bennaiyou

    第22楼2011/03/29

    氯氩对哪些元素测定会有影响呀？

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  • XRF_INFO

    第23楼2011/03/29

    问一下，为什么要排除Ar？您说的光路优化我不是很清楚，我见的EDXRF探头都是固定的，不能伸缩的，而且样品也是固定的。
    要将近80个元素全排在30-40eV的范围内（应该不是30-40ev，应是30-40kev，）。前面我说，如果S含量不高，对Cl没大影响，但S高，对Cl肯定有影响的。

    lzx-00(lzx-00) 发表:我也不是很明白这三种方法，只是看到别人有提到过，我想应该是针对现在无卤里的Cl来的，真空可排除Ar，我听他们的意思光路优化好像是缩短探头和样品的距离来降低Ar的干扰，能量改变我也不太清楚，会不会是将Cl和Ar的峰拉开？
    按照能量来看，S、K是在Cl两边，现在探测器的分辨率是可以将他们分开，但是以大多数厂家光管的激发效率来看（大多都是40-50Kv），要将近80个元素全排在30-40eV的范围内，S、Cl、K也相隔不了多远吧？低含量还可以，高含量就影响比较大了。

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  • lj919

    第24楼2011/03/30

    个人愚见：我觉得上述三种方法其实目的都是一样的：把被测试元素和干扰元素相互独立，便于分辨和计算； 但是我们不能忽略的是XRF计算的基本原理是对特定范围内荧光强度积累的量的计算，其中特定范围内相同或相似的荧光却都很多种，如CL：2.82KeV 与其相近的强度的元素有：S、Ar、Ru、Rh、Ag等，所以在计算Cl的含量时有上述元素存在的话我们的计算结果偏差就会比正常情况要大很多，所以我们讨论准确性时不能一概而论。所以我们XRF只能做刷选型的工具不是最终判定者。

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  • XRF_INFO

    第25楼2011/03/30

    Cl KA1：2.62kev，ClKB1：2.82kev。其他同感。

    lj919(lj919) 发表:个人愚见：我觉得上述三种方法其实目的都是一样的：把被测试元素和干扰元素相互独立，便于分辨和计算； 但是我们不能忽略的是XRF计算的基本原理是对特定范围内荧光强度积累的量的计算，其中特定范围内相同或相似的荧光却都很多种，如CL：2.82KeV 与其相近的强度的元素有：S、Ar、Ru、Rh、Ag等，所以在计算Cl的含量时有上述元素存在的话我们的计算结果偏差就会比正常情况要大很多，所以我们讨论准确性时不能一概而论。所以我们XRF只能做刷选型的工具不是最终判定者。

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  • 金水楼台先得月

    第26楼2011/03/31

    Cl的准确度大概能做到多少？

    XRF_INFO(xrf-info) 发表:Cl KA1：2.62kev，ClKB1：2.82kev。其他同感。

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  • lj919

    第27楼2011/03/31

    对于准确度之说其实都是仁者见仁智者见智的！

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  • ljzllj

    第28楼2011/04/08

    如果使用Rh靶的光管，Rh对Cl的干扰也很严重。

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  • 金水楼台先得月

    第29楼2011/04/08

    能具体说说吗/？

    ljzllj(ljzllj) 发表:如果使用Rh靶的光管，Rh对Cl的干扰也很严重。

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  • XRF_INFO

    第30楼2011/04/10

    我见的EDXRF不用Rh靶，使用Pd靶材。。。。

    金水楼台先得月(albert800922) 发表:能具体说说吗/？

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  • 金水楼台先得月

    第31楼2011/04/12

    Pd靶材，不用滤光片吗？

    XRF_INFO(xrf-info) 发表:我见的EDXRF不用Rh靶，使用Pd靶材。。。。

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