你说的很多，但是我该从哪开始入手呢。

背景值要两次完全一样很难，只要不是相差太多，这个没必要去考虑。我觉得你先换个基体改机剂，试试看的效果怎样，接着优化下升温程式，要不然你按原先的基体改机剂，灰化温度这么低，原子化时背景高是很正常的。

灰化温度我提高到900度了
进样量是20ul，背景下来了。
但是刚做好的曲线，RSD均小于2，
为什么做了一段时间，反回来测液体标准
浓度降低了一半，不知道是什么云原因。

还是用抗坏血酸做基体改机剂？标准溶液的点是2,5,10,20ppb？用的是哪个浓度反测的？反测的时候，标准溶液的RSD怎么样？峰型图怎么样？

改进剂没有变。标准用2，5反 测。RSD大概在30-80%，很糟糕。

呵呵，再耐心的优化吧，这也是做石墨炉的麻烦地方，也是它的魅力所在。

如何优化，现在生产任务又重。

优化无非就是改变灰化温度及原子化温度，这里主要的是改变灰化温度。之前灰化温度提高到900度以后，标准溶液的灵敏度降低没?我觉得你可以试下另一种基体改机剂。生产任务重也是麻烦事，尽量多找点时间弄吧，或者跟你们领导说说。

没有降低。

绝大多数时候大家只关注灰化原子化温度的设定，很少有人关注一下干燥温度，现在我只改了下干燥温度就OK了！