今天看到一份资料，提到Al上的SiO2保护层具有较高的光谱平坦度，反射率高于85%，但是长期稳定性不够，很可能是因为非晶薄膜晶化导致空隙而使暴露的Al膜失去保护；相比而言，ZrO2+SiO2的薄膜是晶态的，膜层牢固而且稳定，而且其反射率高于99%，不足是其反射带宽较窄，截至波长在300nm左右，而且在两层保护膜的之间质量控制对成品质量影响甚大，质量不好会导致某些波段反射率大幅度下降。

祥子(nemoium) 发表:

光污染的机制我认为有两个，均是直接或间接由光照发热引起：
1、局部光照受热不均，热胀冷缩不一致引起微裂纹；
2、光照促进非晶SiO2局部晶化，从而引起低反射率的坏点，原理与激光在三维玻璃内光雕类似。


值得注意的是，高反并不意味全反，对于强光1%的吸收就很可观了，
何况很多产品吸收系数远不止1%....

这还真是一块小小的镜子都有大学问。我看过精科，光谱，普析的反光镜都是那种正面看上去很明亮的凹面镜，可惜没把图拍下来。