楼主要看看是不是灯的问题，不进样空走看看结果

，还有就是要预热时间稍微长一点

大概是这个样子，比如测量一批样品大概100多件，时间50多分钟，测完整批样品后，再重新测试第一个样品，就要比开始测的时候高很多。这时再测样品空白也开始要高很多，而且不管怎么清洗，都不会降下来

gxq1024(gxq1024) 发表:本来我也觉得是试剂污染，但是又想不通，究竟是怎样的污染，居然会是使进载流还原剂的荧光强度从200+，每次10+，10+的往上跑，最后几十次之后跑到了500+，600+。600+之后，幅度小了点，但还是会有2+，3+的稍微的整体往上偏走的趋势。
然后关机，明天继续测，开始荧光强度又回到200+左右，然后又是慢慢往上飘，根本没法展开检测。。。

不知道楼主说的跟我的情况是不是差不多

是的，洗不下来，但第2天重新做，貌似就下来的

检测时没办法，做几个样就做次空白校准吧

这种情况很郁闷，想必大家遇到的也不少，建议做的时候加质控样品。样品每间隔一段校准下曲线。

可以想一下 是不是在测定别的元素引入的污染？可以试一下清洗反应器看看结果。

gxq1024(gxq1024) 发表:本来我也觉得是试剂污染，但是又想不通，究竟是怎样的污染，居然会是使进载流还原剂的荧光强度从200+，每次10+，10+的往上跑，最后几十次之后跑到了500+，600+。600+之后，幅度小了点，但还是会有2+，3+的稍微的整体往上偏走的趋势。
然后关机，明天继续测，开始荧光强度又回到200+左右，然后又是慢慢往上飘，根本没法展开检测。。。

不知道楼主说的跟我的情况是不是差不多

这个有点像原子荧光测汞，空白值易往上飘，建议更换纯度更高的酸，飘的幅度会降低，作曲线和考核样时不会太影响，做考核样时，每一两个样品分析都要做一次样品空白，这样能减少影响。