这是做有机锡的，方法如下。
程序升温50℃，35℃/min到300℃保持2min。进样口温度280℃，流量1ml/min，不分流。GC/MS接口温度320℃，离子源280℃。

这是SCAN和SIM的方法，分开和一起做时的条件没有变化。