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  • zq8103

    第41楼2013/01/12

    ICP选用216.9nm测一下，查看一下谱图，应该是你的样品基体有干扰造成，若这样的话，aas测得结果更加准确些

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  • wilson

    第42楼2013/01/16

    LZ把图贴出来看看啊

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  • shagei

    第43楼2013/01/18

    这个要看设置，优化仪器。成熟的分析人员测试出这样的结果，接下来是分析谱图。Fe基在ICP上测哪条线都扯淡，倒是可以用峰高试试，别积分面积了。AAS的结果稍好些，就是火焰的灵敏度差些，测个0.1---0.3，那是要多测几次。

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  • shih20j07

    第44楼2013/01/20

    方法的局限性吧，反正不可能面面俱到

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  • yangchengh

    第45楼2013/01/23

    金属还是用AAS测比较好，毕竟用ICP测基体干扰严重，同意楼上几位老师的说法，用IEC校正或者FACT校正下吧（如果是Varian的），如果确定是谱线干扰，但是用IEC和FACT无法校正，建议采用标准加入法

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  • yangchengh

    第46楼2013/01/23

    还有，我记得CPSC只要做涂层的总铅吧

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  • abcpgf

    第48楼2013/01/25

    应助达人

    应该是干扰的问题，一般用AAS和ICP相差不大的。

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  • andrew-zhang

    第49楼2013/01/25

    CPSC要做基材铅啊，涂层铅方法是E1003-09.1，基材铅的方法是E1001-08.2跟E1002-08.2

    yangchengh(v2658860) 发表:还有，我记得CPSC只要做涂层的总铅吧

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  • yangchengh

    第50楼2013/01/26

    记不太清了，之前看公司的资料好像是只做涂层总铅，也许记错了，呵呵

    andrew-zhang(andrew-zhang) 发表:CPSC要做基材铅啊，涂层铅方法是E1003-09.1，基材铅的方法是E1001-08.2跟E1002-08.2

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