+关注 私聊

  • 光哥

    第11楼2013/01/11

    应助工程师

    BEC这么高的话那就完蛋了。本身待测样品溶液也就那么1ppb上下的。

    发这个帖子主要是想讨论以下2点，而这个讨论不以ICPMS为前提的。例如AA或者ICPOES测试过程中会出现第2点：

    1、样品目标元素含量处于痕量和超痕量范围的话，blk是否需要做控制？如何控制为宜？

    2、非低含量测试当中，偶尔会出现标曲空白高于流程空白，那么此时如果机械地计算，流程空白是负值的。这个负值怎么看？

    andis(andis) 发表:如果标准曲线没过零点，可能做出来的空白有几百ppt，也有可能是负值，可以配一个1ppb的检查，LZ举列中说一100多ppt，这么低的浓度，加1%的HNO3，也可能会产生这水平的BEC。再连续10个样做一个空白校正和QC样，样品多的话，也不太可能

0
  • 分
  • 该帖子已被版主-阶前尘加4积分，加2经验;加分理由:讨论
    +关注 私聊

  • 阶前尘

    第12楼2013/01/11

    应助达人

    空白在半导体行业那是必须加以控制的，他们的检测含量更低！~

0
    +关注 私聊

  • 光哥

    第13楼2013/01/11

    应助工程师

    其实这个只是一个方面。很多其他版面里出现这种情况：空白负值。也就是说标曲空白的信号值高于流程空白的信号值。

    这个负值，你是要呢，还是要呢，还是要呢？

    阶前尘(jieqian1211) 发表:空白在半导体行业那是必须加以控制的，他们的检测含量更低！~

0
  • 分
  • 该帖子已被版主-阶前尘加3积分，加2经验;加分理由:讨论
    +关注 私聊

  • yangchengh

    第14楼2013/01/13

    质控样可以就行了，如果进样系统和矩管，采样锥，透镜这些被污染了，不光空白高，质控样也会偏高，结果精确度都会变差，所以质控样管控就可以了

0
    +关注 私聊

  • 娃娃贝贝

    第15楼2013/01/16

    我们做空白的话会有两种，一是以UPW加HNO3（防止管壁吸附）作空白，二是用空气做空白，若是值相对来说高了不是高太多则可以用的，但是高的多的话就需要对你的仪器做个保养了，但也可以先用1%HNO3清洗再做空白试试，这都没有管控。

0
    +关注 私聊

  • 光哥

    第16楼2013/01/16

    应助工程师

    空气做空白？这个倒是第一次听说。

    是什么样的情况以及能反应什么样的问题呢？

    娃娃贝贝(v2658976) 发表:我们做空白的话会有两种，一是以UPW加HNO3（防止管壁吸附）作空白，二是用空气做空白，若是值相对来说高了不是高太多则可以用的，但是高的多的话就需要对你的仪器做个保养了，但也可以先用1%HNO3清洗再做空白试试，这都没有管控。

0