fengyonghe
第31楼2013/04/22
这张图是1.50KV减速,应该可以在这个加速电压下继续调整stage bias 达到更好的效果:不一定非要用500v、200V加速电压。
asahi42
第32楼2013/04/22
那张图主要说明的问题是1.5kV的着陆电压下有非常严重的样品变形,光靠调整Bias也许能够增加信噪比,但是却不能保护样品。
第33楼2013/04/22
多谢,知道了。
第34楼2013/04/23
scienceman
第35楼2013/04/25
没有想到!多谢了!那天试试看!
zhengyihao
第36楼2013/04/26
谢谢楼主,给俺们提供了很好的例子
天黑请闭眼
第37楼2013/04/26
如果是氧化硅薄膜沉积在Si片上,该用什么参数比较好呢?实在太平,那么最好考虑倾转样品?
第38楼2013/04/26
参考林老师的擂台。
第39楼2013/04/27
参考林老师的擂台。[/quote]thanks. 不过林老师的片子俺这个新手可操作性不大啊,asahi的仪器和俺一样,条件还好掌控一点......
linzq
第40楼2013/04/27
thanks. 不过林老师的片子俺这个新手可操作性不大啊,asahi的仪器和俺一样,条件还好掌控一点......[/quote]有CBS吗?有的话大工作距离加点倾转,再试试。CBS是背散射探头,受荷电影响小。单晶表面,用下探头可以看出凹凸不平的景象。不过4800的下探头在侧面,所以凹凸表现会好一些,你的样品要出来倾斜是需要的,等于是探头装在侧面。