按照你的想法完全可以用定点测量完成，没必要线扫描。文献那张图应该也是定点测量完成的。

你的结果和文献的结果是两个概念，不能互相比。
你做的是拉一条线看这个截面的元素变化情况，而文献的做法是测出该位置每个元素的含量，然后把数据输入origin之类的软件画出曲线来。

你从文献的图上看，从0.25-1.5微米之间，几个元素的变化程度并不大，变化主要在最初的0.25微米之前，和后面基体上。所以你考虑下你制样的过程中，磨的时候是不是把最前端磨掉了，或者出现倒角，也就是最前端较低，能谱没有采集到足够多的信号。

你好！谢谢回复，那个文献结果 和我的结果都是为了反映 截面元素 变化情况， 我认为 不同之处 在于 文献是 在截面上 拉一条线， 然后在线上 间隔打点得到 该点处的 元素含量，而我的是 测出整条线上的 元素变化。我有必要也按照文献 那样做

恩 我也觉得他是 间隔打点 得到的 截面纵向 不同位置的 元素含量

此时要注意空间分辨率，因为整体是250nm，那每一层或者每一个点都很近。而打到样品上后，因为会在样品深处存在梨形区，也就是有扩展。因此，你做结果的点很有可能是彼此覆盖的。而郁闷的是，你要做的In，Ga和Se属于重元素，如果激发k线系或L线系的话，仍然需要高的加速电压，即扩展不可抗啊。但是可以尽量降低电流值，需要采集时间长一点，那请在粘贴样品时注意，尽量牢固一点，不令其飘。