应助达人

安老师，请您来说说好吗？火焰法到底要不要扣背景？一般情况下，大家的确是不扣背景啊

应助达人

请老师以后多帮助我们，我们自己也尽点心；关键是工程师不教。

应助达人

简单的说，背景的产生主要是由化学干扰和光谱干扰两大类构成的，这其中化学干扰占的比例较大。所谓的化学干扰主要是样品中的分子吸收干扰。
举一个形象的例子：一个人1米5的身高，可是他要穿上高跟鞋就变成了1米6的身高了。那么这个人的身高究竟是1米5还是1米6？
原吸吸收分析仪在刚开始问世时仅有火焰分析方式，并且的确没有背景扣除功能。后来人们在实践中发现相同体积（或浓度）的样品溶解在体积相同而结构不同的试剂中所测得的结果却不同，这才引入了背景的概念。随后就研究出了使用氘灯的连续光谱来扣除分子吸收的干扰的方法。
由于火焰方法的灵敏度没有后来发展的石墨炉的灵敏度高，从而造成了背景干扰也不及石墨炉那样明显和突出，于是人们便将背景的研究向石墨炉方向倾斜了。这就是为何有人常常讲“火焰方式无需背景校正”的高论的来由了。

冰山(yang_qingwen) 发表: 安老师，请您来说说好吗？火焰法到底要不要扣背景？一般情况下，大家的确是不扣背景啊

应助达人

我也一直想搞清楚连续光源仪器是如何扣除背景的原理，遗憾的是一直未果。
其实 你们的这种遭遇既不怨工程师不教给你们也不怨你们的不尽心，而是耶拿公司本身对于连续光源仪器的背景校正原理的介绍的资料就少之又少，给人的感觉似乎是刻意回避，也许这是出于商业机密的原因吧？如果是出于这种原因可能造成了连他们自己的工程师都搞不清楚其中的原理，又怎能讲给你们听呢？
过多的我就不多说了，附上两份资料你们自己慢慢找找有关背景校正的介绍在哪里？篇幅有多大？

应助达人

谢谢老师，我对化学干扰和背景扣除又有啦进一步理解。

用过连续光源的石墨炉扣背景，和传统的塞曼扣背景没法比，同样的质控样品处理液用传统塞曼扣背景的原吸标准曲线法能够准确定量，用连续光源原吸要用标准加入法才能定量准，而且偏偏连续光源石墨炉的线性范围很窄，加入法又不稳定，我要了。
仪器的扣背景方式介绍说使用校正像素的方式，先进的实时背景扣除，ccd检测器相当于200个检测器同时工作，所有像素同时被照耀，所有像素同时读数，所有校正同时进行。。。。

连续光源的原子吸收仪器是否自动选择背景参考点呢？工程师不愿说，因为涉及的问题很复杂，一两句很难说清楚，

应助达人

可能是自动选择背景参考点--没见工程师的选择背景参考点 。