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  • envirend

    第11楼2018/10/29

    应助达人

    谢谢关注，我们目前还没有开展此工作，正为“结合WO产率及丰度编辑的干扰方程，如何解决干扰扣过的问题？”头疼——结合氧化物产率编辑干扰方程是否可行？

    yukiyxy(yukiyxy) 发表:楼主，后期有没有继续实验？
    第二篇文献好多表述有前后矛盾及模糊的地方，如采用的是热电X 系列仪器，小锥孔径0.4？印象里热电用的都是0.7或者0.75的；
    调谐液中没有包含Ce或者Ba元素，氧化物指标及双电荷指标不知用的是哪个做指标；
    CeOH对157Gd的校正系数为0.008，即CeOH的产率有0.8%；这个与我实验中发现的结果差很多，CeO产率约为3%时，CeOH的产率约为0.05%；PrO的产率虽比CeO小(PrO产率约为1.8%)，为何不考虑PrO对157Gd的影响？
    同时我们实验中考察50ppb及100ppb Ba对 153Eu的干扰，此时137BaO的产率不变，约为0.13%，明显小于CeO指标。

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  • yukiyxy

    第12楼2018/10/30

    氧化物产率每次测试都需要重新测过，最好的方式是采用跟基体浓度一致的标液进行测定。

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  • envirend

    第13楼2018/10/31

    应助达人

    我个人认为：(1)仪器条件一致情况下，氧化物产率会随着干扰物的浓度增加而略微增加，直至趋于稳定；(2)干扰物的含量很低可以忽略其影响(追求完美测试结果 另当别论)，也就是说我们主要关系高干扰物含量对低含量待测物的影响（同时需考虑离子产率、丰度）；(3)通过氧化物产率编辑干扰方程，为锦上添花作用。

    yukiyxy(yukiyxy) 发表:氧化物产率每次测试都需要重新测过，最好的方式是采用跟基体浓度一致的标液进行测定。

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  • 仪器精英

    第14楼2018/12/14

    感谢分享好东西

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  • 仪器精英

    第15楼2018/12/14

    非常感谢楼主，这些内容非常有用，谢谢

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