我认为您说得不对， 应该是您第二张图才是浸末式电磁透镜，英文IMMERSSION LENS，和您图示的SNORKEL LENS 是一个东西。
还有再罗嗦一句，您发的这三张图看来是想说明一个从低端设计到高端设计的顺序，但我看大不然，应该倒过来才正确，第三种设计其实是最落后的，最不可取的。

kapabulanka 发表:发一个物镜类型的图示。其中第三种就是浸没式物镜。

浸末式的物镜的磁透镜与样品间的距离小,可实现高分辩率,不应该是底端产品呀?

我接触扫描电镜的时间比较短，说错的地方请批评指正．
我对这个问题是这样理解的．

（示意图，有的位置可能化错了．）
如果透镜不存在相差不考虑物镜光阑的因素,根据光学的放大率公式，照射到样品上的电子束的束斑的大小,与电子枪的交叉斑d0成正比与磁场形成的透镜与样品的表面的距离b2成正比,如公式。减小样品与磁场形成的透镜的间的距离可以缩小照射到样品表面的电子束斑.
1图所示的物镜,磁透镜形成于物镜内(虚线所示）,它与样品间的距离很长,因此分辨率低.它是常规的物镜.
2图所示的物镜,磁场形成于极靴的下面,它与样品间的距离短,被称为半漏磁物镜.
3图所示, 样品完全浸没在物镜的磁场中，样品与磁透镜间的距离非常短，因此分辨率高．这种物镜应该是浸没式物镜，据说日立的 S-5500就是使用这种物镜，号称能够实现０.4nm的分辨率（不知是否在吹牛），当然这种物镜的样品室小，而且害怕磁性样品．

这是在以前的帖子中找到的材料。

请教专家：我们钨灯丝电镜（XL 30 ESEM）做含少量铁的粉末样品时，会不会有问题？看了你们的讨论实在很担心！请给予回答！

听说ZEISS的场发射电镜有独特设计低端有"Electrostatic lens" 静电透镜, 在样品室的基靴低端几乎没有磁场外泄情况

所以像铁磁材料, 永磁材料或者其他容易磁化的材料都是没有问题的.

请高手指教一下

我觉着SEM不能观察磁性样品就是一个概念上的错误。首先，我们要知道SEM的光路构造。
SEM的电子光路由以下几部分组成：
电子源（electron source）包括单纯靠加热使物质中电子获得足够能量克服功函势垒产生电子的钨或六硼化镧灯丝称作热阴极、靠施加电场使电子具有足够能量发生隧穿产生电子的场发射阴极，场发射阴极又分为镀有ZrO的钨或六硼化镧针丝的热场发射（亦称肖特基发射源，注意这里的钨或六硼化镧针丝的形状与热阴极相比更加尖锐，而工作温度要低很多热阴极为2700K而热场发射一般1800K），和靠把钨或六硼化镧针丝尖端制作得非常尖锐，因此单纯的外加电场就能使电子隧穿的冷场发射灯丝。
电子透镜（electron lenses）就是靠静电场力或磁力聚焦电子的装置，分别称为静电透镜和磁透镜。但是由于静电透镜的球差和色差都要比磁透镜的大，所以在SEM中静电透镜没有磁透镜用得普遍，只是在汇聚透镜(condenser lens)中用到静电透镜。这也是因为汇聚透镜对像差的要求不高的原因，而末端透镜(final lens)对于像差的就很高了，所以采用磁透镜。由于磁透镜采用软铁体作为外壳、铜绕线圈加交变电流产生磁场，一些磁性材料会在强大的磁场下磁化并且通过极靴（polepiece）被吸入到磁透镜内进而影响磁透镜内对称的磁场，这也是为什么磁性样品不能在SEM中观察的原因了。
此外，电子光路上还包括膜孔(apertures)、电子挡板(blanking)、对准线圈(alignment coils)、消象散器(stigmators)和偏转器(deflection systems)等。
对于楼上几位列举的几种物镜包括常规物镜、snokel type透镜和浸没（immersion）物镜我觉着从本质上都是磁透镜，无非是immersion lens能够对二次电子有磁场汇聚作用，让我们能够收集到更多的信息，从而得到成像质量更改的照片而已。

以上拙见不值一哂，特别请RENXIN几位老哥望在有一面之缘的份上高抬贵手！

越看越糊涂

ls大牛的解释好像太高深了
也许lz碰到的情况是由于某些电镜的状态而导致的
我们这边用FEI的NANO系列
FEI电镜有一项做高分辨的专利，即用UHR模式可以做高分辨图像。用UHR模式时在机靴处又加了一个强磁场，因此磁性样品我们一般就不做高分辨。
如果我碰到LZ的样品，是不会做的。
因为他的颗粒过小，势必会用到UHR模式。同时这材料又是磁性的，用UHR模式会将颗粒吸上去。
我给出的解释会跟那位老师说的一样

你这资料在哪里找的，能不能发给我一份，fengyinqiao@yeah.net，谢谢！

kapabulanka(kapabulanka) 发表:这是在以前的帖子中找到的材料。