普罗米修斯助力 Air Liquid 开发新型 ALD 前驱体

ALD 反应依赖于多种前驱体化学物质得到最终产物的一种气相沉积技术。由于 ALD 反应的自限制特性，前驱体通常是过量的，从而保证表面的饱和化学吸附，实现均匀包覆。在半导体工艺中，ALD 技术已经得到广泛应用。近年来，随着粉末 ALD 包覆研究：PALD（Particle ALD）的兴起，前驱体的开发被赋予了更高的使命与要求。开发新型 ALD 前驱体，将是“纳米盗火者”们不竭的使命。