您还有0次抽奖机会
锤子
膜去溶剂化进样ICP—MS法直接测定电子级高纯过氧化氢中痕量金属杂质
- 类别：分析方法/应用文章
- 上传人：莱伯泰科
- 上传时间：2009/7/9 16:59:47
- 文件大小：108K
- 下载次数：214
-
消耗积分 : 免积分
简介：
摘要：用ARIDUS膜去溶剂化进样器，在ICP—MS的标准状态(STD)和冷焰状态(PS)测定电子级高纯过氧化氢中的34个痕量金属杂质，用铟作内标可补偿基效应，方法检出限为0．1～70ng／L，加标回收率为9O ～l1O ，长时间相对标准偏差(RSD)小于5 ，ICP—MS测定结果与ICP光谱测定结果基本一致，ICP—MS提高了分析的准确性和工作效率。关键词：电子级高纯过氧化氢；ICP—MS；痕量金属杂质；膜去溶剂化进样
打开失败或需在电脑查看，请在电脑上的资料中心栏目，点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。
下载该资料的还下载了
推荐学习更多>>
-
￥50 -
￥50
-
￥50
-
￥50
- 注意：
- 1、下载文件需消耗流量，最好在wifi的环境中下载，如果使用3G、4G下载，请注意文件大小。
- 2、下载的文件一般是pdf、word文件，下载后如不能直接浏览，可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
- 3、下载的文件如需解压缩，如果手机没有安装解压缩软件，可到应用商店中下载相应的解压缩APP。