【微光谱应用】使用光纤光谱仪进行等离子体监测

背景 半导体工业中，我们通过光刻技术制造和控制晶圆。其中蚀刻是该过程的主要环节，当在晶圆表面蚀刻时，可使用等离子体监测跟踪蚀刻穿过晶圆层，并确定等离子体何时完全蚀刻特定层并到达下一层。通过监测在蚀刻期间由等离子体产生的发射线，可精确追踪蚀刻过程。 实验原理 等离子体监测可为样品提供详细元素分析，并确定在控制基于等离子体的过程中所需的关键等离子体参数。等离子体发射特征谱线可用于识别存在的元素，强度可用于实时量化粒子和电子密度。图1为空气300-550nm光谱曲线图，在该波段内，N的特征谱线有1、2、3、5、7、13；O的特征谱线有4、11；Xe的特征谱线有6、8、9、10。