【课件】金刚石材料的ICP刻蚀工艺

  1. 类别:课件讲义
  2. 上传人:dz2011
  3. 上传时间:2023/4/13 19:49:09
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简介:

对于低能离子溅射来说,原子的出射位置往往并不是离子与固体表面的碰撞位置,离子与固体表面作用时需要经过一个顺流而下的级联碰撞过程,原子才从某个位置被溅射出来。对于平面位置、锥底、锥侧壁、锥尖四个位置的出射产额逐渐减小,所以离子对锥底与锥顶有选择性刻蚀效果,锥角越小即锥越尖锐,锥顶和锥底的出射产额差别越大,选择性刻蚀效果越明显。

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