半导体器件的制造方法和系统.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/17 16:27:34
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简介:

本文示出了一种改进的半导体器的制作系统和方法。在此系统中,错助ECR系统和CVD系统的联合可以蘧免有客的藏射效应。在用联合系统淀积之前,在反应室内可以在基片上预形成一个子层,在不接触大气的情况再传递到用联合系统进行淀积的另个反应室,以使得这样形成的结有良好的特性。

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