半导体器件及其制造方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/17 16:37:57
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简介:

通过选择加入对晶化非晶硅和退火有催化作用的金属元素,在预定方向晶化硅膜。在制造TFT过程中,利用晶化硅膜,如此提供TFT以致于晶化方向大致平行于源和漏之间的电流方向,以及如此提供TFT以致于晶化方向大致垂直于源和漏之间的电流方向。因此,在同一衬底上面,形成能够进行高速工作的TFT和具有低漏电流的TFT。

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