用于光刻工艺的模拟方法.pdf

类别：专利
上传人：wuyuzegang
上传时间：2023/4/17 17:22:06
文件大小：830K
下载次数：0
消耗积分 : 50积分移动终端：免积分

赞

收藏

简介：

揭示一种用于模拟光刻工艺的模拟方法,并且该方法能预估抗蚀剂图形的大小,是借助于决定投射影像中的简化模型来代表抗蚀工艺,而不模拟包括抗蚀工艺的完整工艺过程,来获得扩散投射影像模型(DAIM),然后再把DAIM应用到临界模型。

打开失败或需在电脑查看，请在电脑上的资料中心栏目，点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。

下载该资料的还下载了

推荐学习更多>>

注意：
1、下载文件需消耗流量，最好在wifi的环境中下载，如果使用3G、4G下载，请注意文件大小。
2、下载的文件一般是pdf、word文件，下载后如不能直接浏览，可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
3、下载的文件如需解压缩，如果手机没有安装解压缩软件，可到应用商店中下载相应的解压缩APP。