光刻胶及微平版印刷术.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/18 16:46:39
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简介:

公开了用于紫外(UV)区和紫区微平版印刷术的正性光刻胶及相关的工艺。该光刻胶包含:(a)含经保护的酸基的支链聚合物和(b)至少一种光致产酸剂。此光刻胶对整个UV区具有高透明性,有良好的显影性能,抗等离子体蚀刻性高及其它合乎需要的性能,因而对近、远和特远UV,特别是在短于或等于365nm的波长处的微平版印刷术很实用。

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