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锤子
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本发明涉及在半导体器件制造的光刻工艺中使用的形成防反射膜的组合物,该组合物含有具有5000或其以下重均分子量的聚合物(A),和具有20000或其以上的重均分子量的聚合物(B)。该组合物提供在有孔和沟槽的凹凸不平的基板上的段差被覆性优异,防反射光效果高,而且不发生与抗蚀剂层的混和,可以得到优异的抗蚀剂图案,具有比抗蚀剂更大的干蚀刻速度的光刻用防反射膜。
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