用于相移光刻掩模的光学接近校正.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 9:40:04
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简介:

提供了一种用于产生用于限定目标图案的光刻掩模的计算机可读定义的方法。该相移掩模图案包括相移窗口,修整掩模图案包括修整形状,他们具有由这样的线段组限定的边界。对于用于限定目标图案中的目标图形的特定的一对相移窗口,在所述对中的每个相移窗口可以被考虑为具有包括与所述目标图形相邻的至少一个线段的边界。同样,例如通过包括用于清除在特定对的相移窗口之间的不需要的相变的透射区域,而限定目标图形的互补修整形状包括可以被考虑为靠近该目标图形的至少一个线段。通过调整在靠近该目标图形的所述对中的相移窗口的边界上的至少一个线段的位置、并且通过调整在靠近该目标图形的互补修整形状的边界上的至少一个线段的位置来提供接近校正。

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