消耗积分 : 50积分 移动终端:免积分
在分子氧存在的情况下,通过用波长短于250nm的UV或EUV射线辐射内装光学元件的空间,可以就地清洗光刻投射设备中用的光学元件。用除了含有常用的洗涤气体组分外还含有少量分子氧的洗涤气体清洗所述空间。该方法也可以用在抽真空的空间中,给空间引入低压分子氧。该方法避免使用诸如臭氧的不稳定的材料。
<< 查看更多
打开失败或需在电脑查看,请在电脑上的资料中心栏目,点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。
品牌合作伙伴
从巴黎奥运会看水质污染
锤子