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本发明披露一种光刻投射装置,包括可产生辐射投射光束的辐射系统,投射光束来自辐射源射出的辐射;用于支撑构图部件的支撑结构,当由投射光束辐射时提供带图案的投射光束;用于固定基底的基底台;以及投射系统,设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基底的靶部上。辐射系统进一步包括离开光轴一段距离的孔径,从光源方向看位于孔径之后的反射器,以及位于孔径之后的低辐射强度区域内的结构。
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