光刻装置及器件制造方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 10:55:01
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简介:

在EUV投射系统中,测量和控制反射器彼此之间的位置,而不是反射器相对于参考框架的位置。可以通过干涉仪或安装在反射器的刚性延伸部分的电容传感器进行相对位置的测量。

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