正性双层压印光刻法及其所用组合物.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 11:12:40
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简介:

本发明提供了在基片上成图的方法和组合物,其特征在于通过在基片上形成具有突起和凹陷图案层的成图层来产生多层结构。在成图层上形成的是保形层,多层结构具有背向基片的冠形表面。多层结构的一些部分被除去,露出基片上正对突起的区域,同时在冠形表面正对凹陷的区域形成硬掩模。

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