光刻装置,辐射系统和滤波系统.pdf

一种光刻装置，包括：构造成形成射线的投射光束的辐射系统；滤波系统，设置成在使用中将残余粒子过滤在由辐射源放射的射线的预定截面之外，其中滤波系统包括用于俘获残余粒子的至少第一组金属薄片和第二组金属薄片；以及构造成将射线的透射光束投射到衬底上的投影系统。滤波系统还包括至少第一散热器和第二散热器；其中第一组金属薄片的每个金属薄片热连接到第一散热器，第二组金属薄片的每个金属薄片热连接到第二散热器，从而，在使用中，热量通过第一组金属薄片的每个金属薄片基本向第一散热器传递，热量通过第二组金属薄片的每个金属薄片基本向第二散热器传递；并且其中第一组金属薄片基本延伸在预定截面的第一部分中，第二组金属薄片基本延伸在预定截面的第二部分中，该第一部分和第二部分基本不重叠。