电子器件、半导体器件及其制造方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 11:20:37
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简介:

本发明提供了一种利用适合于批量生产制造大衬底的液滴喷射法的制造工艺。通过液滴喷射法选择性地喷射导电膜的光敏材料溶液,选择性地暴露于激光光线,并且显影或蚀刻,由此只允许暴露于激光光线的区域留下,以及实现具有比由喷射形成的图案本身更微小图案的源极布线和漏极布线。源极布线和漏极布线的一个特征是,源极布线和漏极布线穿过岛状半导体层并且与它交叠。

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