用偏振光的光刻印刷.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 16:59:11
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简介:

本发明提供用偏振光改进光刻印刷的系统和方法。在本发明的实施例中,用偏振光(径向或切向偏振的)照明相移掩模(PSM)并产生曝光光束。然后用曝光光束中的光,使负的光致抗蚀剂层曝光。可以用无隔的PSM。在本发明另外的实施例中,用径向偏振光照明掩模,并产生曝光光束。然后用曝光光束中的光,使正的光致抗蚀剂层曝光。掩模可以是衰减的PSM或二进制掩模。即使在低k应用中在各种孔距上印刷接触孔,也能获得非常高的像质量。

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