光刻设备和器件制造方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 17:07:31
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简介:

一种光刻设备包括:调节辐射束的照明系统;支撑构图器件的支架,该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束;支撑衬底的衬底台;把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统;利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统;在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件;和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。

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