对半导体器件中的部件进行构图的方法及光刻结构.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 19:16:59
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简介:

本发明提供了半导体处理技术。在一方面,对在半导体器件中的一个或多个部件进行构图的方法包括如下的步骤。一个或多个部件的至少一个临界尺寸在抗反射材料的蚀刻的过程中被减小。本发明还提供了一种光刻结构。

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