光刻装置的浸没损坏控制.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 19:56:53
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简介:

一种光刻装置,包括:保持基底的基底台,测量基底台的位置量的基底台位置测量系统,将带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统,将浸没液体提供到投影系统的下游透镜和基底之间的空间的流体供给系统,和测量流体供给系统的位置量的流体供给系统位置测量系统。为了防止流体供给系统和基底台之间的碰撞,光刻装置的损坏控制系统包括计算器,其用于从基底台的位置量和流体供给系统的位置量计算流体供给系统和保持基底的基底台之间的间隙的尺寸量。当尺寸量超过预定的安全水平时所述损坏控制系统会产生报警信号。

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