微光刻处理的辐射束特性控制方法和系统.pdf

公开了用于控制引导到微光刻工件上的辐射的特性的方法和装置。根据本发明一个实施例的装置包括被定位以将辐射束向着工件引导的辐射源，其中辐射束具有幅度分布、相位分布和偏振分布。自适应结构可以位于辐射束的路径中，并且可以具有多个独立可控、且可选择性透射辐射的元件，其中每一元件被配置为改变辐射束的幅度分布、相位分布和偏振分布中至少一个。控制器可以可操作地连接到自适应结构，以引导自适应结构的元件从一个状态改变为多个其他状态之一。因此，自适应结构可以提供具有多个辐射束特性的多个连续可变分布的辐射束。